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반도체 식각 공정: 초미세 회로를 그리는 핵심 기술 오늘날 우리가 사용하는 스마트폰, 컴퓨터, 자동차 등 모든 전자기기의 핵심 부품인 반도체는 수십억 개의 미세한 회로로 이루어져 있습니다. 이처럼 미세하고 복잡한 회로를 웨이퍼 위에 정확하게 구현하는 데 필수적인 공정이 바로 **식각(Etching)**입니다. 식각 공정은 반도체 제조의 8대 핵심 공정 중 하나로, 포토 공정으로 형성된 회로 패턴을 물리적, 화학적으로 제거하여 실제 회로를 형성하는 역할을 합니다. 식각 공정의 중요성, 원리, 종류, 그리고 미래 기술에 대해 자세히 알아보겠습니다. 1. 식각 공정이란 무엇인가? 반도체 제조의 핵심 단계반도체는 실리콘 웨이퍼 위에 다양한 물질을 증착하고, 빛을 이용해 회로 패턴을 형성한 후, 불필요한 부분을 제거하는 과정을 반복하여 만들어집니다. 이때 불필요한.. 2025. 7. 7.
크립톤 및 제논 가스의 제조법과 사용 용도에 대해 알아보자 크립톤(Krypton, Kr)과 제논(Xenon, Xe)은 공기 중에 극미량 존재하는 희귀 가스로, 뛰어난 특성으로 인해 다양한 첨단 산업 분야에서 중요한 역할을 합니다. 1. 크립톤 및 제논 가스의 제조법크립톤과 제논은 대기 중 함량이 매우 낮아(크립톤 약 0.00011%, 제논 약 0.000009%) 제조 과정이 복잡하고 비용이 많이 듭니다. 주로 공기 분리 장치(Air Separation Unit, ASU)를 이용한 극저온 분별 증류 방식으로 생산됩니다.기본 원리:공기 액화: 대량의 공기를 극저온으로 냉각하여 액화시킵니다.분별 증류: 액화된 공기를 끓는점 차이를 이용하여 질소, 산소, 아르곤 등 다른 성분들과 분리합니다. 크립톤과 제논은 끓는점이 높아 액체 산소에 농축되어 남게 됩니다.농축 및 정제.. 2025. 7. 1.
고압가스 시설의 중간검사 및 완성검사 대상, 필요자료, 업무절차 정리 고압가스 검사 대상- 고압가스의 허가, 신고, 등록을 한 자 검사종류- 기술검토 (한국가스안전공사 지역본부)시청에서 변경허가 절차 전에 기술검토를 받아야 하는데 시청은 변경허가에 대한 기술적인 내용을 잘 모르기 때문에 한국가스안전공사(KGS)의 기술적 검토를 받아야 한다.기술검토가 필요 없는 경우 : 회사명의 변경 및 설비의 단순 위치변경 등 - 변경허가 (관할 시청)고압가스 시설 인허가 절차는 관할 시청을 통해 진행된다.필요자료 : 고압가스 시설 변경허가 신청서, KGS에서 승인된 기술검토서, 기존 고압가스 시설 허가증, 변경에 대한 사업 설명 자료변경 허가가 승인되면 공사를 시작할 수 있다. - 중간검사 (KGS)계획한 변경 허가대로 변경을 진행하였는지 확인하는 중간 과정으로 공사 마무리 단계에 KG.. 2023. 9. 26.
가스시설 시공관리 제도 1. 건설업(가스시설 시공업) 등록과 업무 가스시설 시공관리를 위해 건설산업기본법에서는 가스시설 시공업의 건설업 등록을 하도록 하고 있습니다. 건설업의 업종 및 업무 내용 등에 따라 전문공사를 하는 업종 중 가스시설의 설치는 가스시설 시공업에 해당하며, 가스시설 시공 규모에 따라 가스시설 시공업 제1종, 제2종, 제3종으로 구분하고 있습니다. (건설산업 기본법 시행령 제7조) ◆ 가스시설시공업 업종별 업무범위 (건설산업 기본법 시행령 별표 1) 건설업종 업무분야 업무내용 기계가스설비 공사업 가스시설 공사 (제1종) - 가스시설공사 제2종 및 제3종의 업무내용 - 도시가스공급시설의 설치 및 변경공사 - 액화 석유가스의 충전시설, 집단공급시설, 저장소시설의 설치 및 변경공사 - 도시가스시설 중 특정가스사용시.. 2022. 9. 15.
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